2015潔淨室暨廠務技術研討會

今日台灣的經濟成長超過六成的貢獻來自於電子高科技工業,而其中大部份高價值產品大多需要高度受控制潔淨的環境下生產。另一方面,近年興起的生技醫藥產業,已被認為是國內產業發展的下一顆明星,而生技醫藥產業同樣地也需要潔淨生產環境。因此,擁有先進成熟的潔淨環境控制以及相關公用設施技術,將有助於電子高科技工業、生技醫藥產業或其它需要類似技術產業穩健的成長與發展。

為促進科技工業、生醫產業或其它相關產業設施工程技術發表、交流與推廣,特別舉辦本活動,並且以「高科技廠廠務的機遇與挑戰」為本次研討會的中心議題。期待藉由本活動進行相關技術研討、成果發表與經驗分享,提供一個業界及學界潔淨環境控制的交流平台,促成國內相關產業能力普遍提升至國際水準。

日期:
2015年12月8日(二) 08:30~18:00

費用:
新台幣300元整
中華潔淨技術協會會員、高科技廠房設施研究中心會員免費

繳費方式:
繳費通知單
※報名完成後,繳費單會寄送至您報名填寫的e-mail,請持繳費單至便利商店、台銀分行或ATM等等方式進行繳費。

研討會地點:
國立臺北科技大學 綜合科館B1第二演講廳
臺北市忠孝東路三段1號
※建議由高鐵台北站轉捷運板南線(藍線)忠孝新生站四號出口
※自行開車者可將車輛停放於建國高架橋下之收費停車場

演講者:
Dr. SJ Yook (韓國漢陽大學教授)
張陸滿(國立臺灣大學土木系教授)
吳益銘(DAS達思系統股份有限公司)
張文榮 (Dow Chemicals台灣陶氏化學股份有限公司)

主辦:
國立台北科技大學潔淨技術研發中心
協辦:
中華潔淨技術協會
國立臺灣大學土木系高科技廠房設施研究中心

演講綱要

08:30-09:00報    到
09:00-09:20長官致詞
主持人:國立台北科技大學潔淨技術研發中心主任 胡石政
博士
09:20-10:00主講人:張陸滿教授
國立臺灣大學土木系教授/高科技廠房設施研究中心主任
講  題:高科技廠廠務的機遇與挑戰
10:00-10:20休息
11:00~12:00主講人:Dr. SJ Yook-韓國漢陽大學教授
Professor Yook為一國際電子元件微污染控制領域知名
學者,曾任職於三星電子半導體部門,負責光罩及晶圓
的污染及良率提昇。
講 題:Particle deposition onto wafers in cleanroom
airflow(暫訂)
11:20~12:00主講人: 黃柏瑋 總經理
DOW 寶璣系統股份有限公司
講 題:待定
12:20~13:30午餐
13:30~14:30主講人: 吳益銘
DAS 達思系統股份有限公司
講  題:待定
14:30~15:30主講人: 張文榮
Dow Chemicals台灣陶氏化學股份有限公司
講  題:如何降低水處理系統的操作成本
15:30-16:00午茶時間/散會
16:00~18:00中華潔淨技術協會會員大會
18:00~晚餐

分類: 最新消息, 活動剪影。這篇內容的永久連結

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